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HMPS-2150SP星空online最新版下载MPCVD系统沉积速率快、沉积质量高、沉积面积超过100mm。 同题参见适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的沉积。材质表面处理、低温氧化物的生长等。



性能特点

◆微波反应腔采用新一代容积翻盖式蝶形腔体,功率密度大,承载功率高。 对照阅读

◆TM02双模放点,放点区域直径可达100mm,均匀沉积区直径≥90mm。

◆高功率高稳定性固态微波功率源,微波功率输出稳定性高。

◆等离子体远离石英窗。石英窗等冷散热。

◆18L/s双级旋片真空泵或分子泵(选配)。

◆性能先进,安全、可靠性强、重现性好,操作简便。

◆多参数实时监测、采集与记录,PLC屏幕控制,多重联锁保护与报警。另外


星空online最新版下载指标
(1)型号HMPS-2150S
(2)电源AC380±10% V 三相五线制 50Hz,额定输入<25KVA
(3)微波输出功率0.5~15kW 连续可调
(4)功率稳定度 ≤±1%(@满功率)
(5)纹波≤1%
(6)微波频率  2450MHz±50MHz
(7)测温方式  红外300~1400℃或双色600-1800℃,控制精度±5℃
(8)极限真空度≤ 3.7×10-3torr或6×10-6torr
(9)腔体内工作压力 8torr~220torr
(10)自动气压控制0.1torr
(11)等离子放电区域  Φ≥100mm
(12)均匀沉积区域 Φ≥90mm
(13)工作气体五路(可用户定制)
(14)微波泄漏值  <5mW/cm2
(15)工作环境 温度15~40℃,相对湿度≤60%,无腐蚀性气体
(16)系统供水>46L/Min


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